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삼성전자, 시스템반도체 투자 133조에서 171조로 늘린다...파운드리 사업 강화
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삼성전자, 시스템반도체 투자 133조에서 171조로 늘린다...파운드리 사업 강화
  • 김승직 기자 csksj0101@csnews.co.kr
  • 승인 2021.05.13 16:36
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삼성전자가 '시스템반도체 비전 2030' 달성을 위해 투자를 대폭 확대한다.

13일 삼성전자는 평택캠퍼스에서 열린 'K-반도체 벨트 전략 보고대회'에서 향후 2030년까지 시스템반도체 분야에 대한 추가 투자계획을 발표했다.

투자계획에 따르면 삼성전자는 시스템반도체 리더십 조기 확보를 위해 '시스템반도체 비전 2030' 발표 당시 수립한 133조원 투자계획에 38조원을 추가해 2030년까지 총 171조원을 투자한다. 또 첨단 파운드리 공정 연구개발과 생산라인 건설에 더욱 박차를 가한다.

앞서 2019년 4월 정부는 삼성전자 화성사업장에서 '시스템반도체 비전 선포식'을 열고 시스템반도체 육성을 통해 종합 반도체 강국으로 거듭나겠다는 계획을 밝힌 바 있다. 삼성전자는 당시 '시스템반도체 비전 2030'을 제시하며 133조원 투자계획을 발표했다.

비전 선포식 이후 지난 2년 간 ▲삼성전자를 비롯한 반도체 제조 기업 ▲팹리스, 공급망의 핵심인 소재·부품·장비 업체 ▲우수 인재 육성을 담당하는 학계 등 우리나라 반도체 생태계 주요 구성원 간의 상호 협력이 활성화되며 비전 달성을 위한 기반도 착실히 다져졌다는 게 회사 측 설명이다.

최근 모든 산업영역에서 전례 없는 반도체 부족 사태가 빚어지고 각국 정부가 미래 산업의 핵심인 반도체 공급망 유치를 위해 경쟁하는 상황인 만큼 삼성전자는 시스템반도체 투자 확대가 'K-반도체'의 위상을 한층 더 높이는 데 기여할 것으로 기대했다.

2022년 하반기 완공될 평택 3라인의 클린룸 규모는 축구장 25개 크기며 최첨단 기술이 적용된 팹으로 EUV 기술이 적용된 14나노 D램과 5나노 로직 제품을 양산한다. 모든 공정은 스마트 제어 시스템에 의해 전자동으로 관리된다.

평택캠퍼스는 세계 최대 규모의 반도체 클러스터로서 최첨단 제품을 양산하는 전초기지이자 글로벌 반도체 공급기지로서의 주도적 역할이 더욱 강화될 전망이다.

삼성전자는 향후 ▲차세대 D램에 EUV 기술을 선도적으로 적용해 나가고 ▲메모리와 시스템반도체를 융합한 'HBM-PIM' ▲D램의 용량 한계를 극복할 수 있는 'CXL D램' 등 미래 메모리 솔루션 기술 개발에도 박차를 가하며 '초격차 세계 1위' 위상을 강화할 계획이다.

이날 행사에서 삼성전자 김기남 부회장은 "한국이 줄곧 선두를 지켜온 메모리 분야에서도 추격이 거세다"며 "수성에 힘쓰기 보다는 결코 따라올 수 없는 '초격차'를 벌리기 위해 삼성이 선제적 투자에 앞장 서겠다"고 강조했다.

[소비자가만드는신문=김승직 기자]
 


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